自2016年1月起，原属于Wiley 出版社的期刊 Chemical Vapor Deposition (CVD) 将不再独立存在，它将加入Advanced Materials Interfaces 并成为其中的一个专栏。该专栏的论文评选标准将与Advanced Materials Interfaces 一致。
来自法国国家科学研究中心（CNRS）的 Francis Maury 教授将担任CVD专栏部分的国际编委会主席。期刊也将邀请来自CVD相关领域的中国科学工作者加入专栏编委，最终名单将在近期公布。
右侧Advanced Materials Interfaces的封面由Karen Gleason课题组提供，该期的综述介绍了利用化学气相沉积（CVD）技术在聚合物薄膜制备及可再生能源领域的应用
背景介绍：
Chemical Vapor Deposition 发表化学气相沉积和相关表面修饰技术的同行评审的期刊，文章形式包括通讯，全文和综述等，每月一期，英文出版，在CVD相关材料学科领域具有较高的国际影响力。2014年SCI最新影响因子1.703。
Advanced Materials Interfaces 为 Advanced Materials 期刊子刊，2014年创刊。主要发表与界面相关的前沿科学研究论文及综述，内容涵盖物理、化学、材料和生物等多个学科领域。目前该期刊已被SCI数据库收录，第一个影响因子将在2016年发布。
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