AM:高强度、高导电、自支撑MXene膜的大面积制备

研究团队:澳大利亚迪肯大学Joselito M. Razal教授研究团队
研究内容:在不借助任何粘合剂或成膜助剂的条件下,采用刮涂法(blade-coating)实现了兼具高强度、高导电性的自支撑MXene膜的简便大面积、连续化制备。该制备方法所制备的导电膜MXene薄片高度有序排列,940 nm厚度的自支撑膜抗张强度达568 ± 24 MPa、杨氏模量达20.6 ± 3.1 GPa,214 nm膜厚电导率达约15,100 S cm-1;同时,该MXene膜材料展现出优异的电磁屏蔽性能(940 nm 厚度薄膜约50 dB)。
文献信息:Scalable Manufacturing of Free-Standing, Strong Ti3C2Tx MXene Films with Outstanding Conductivity (Adv. Mater., 2020, DOI: 10.1002/adma.202001093) [原文链接]

上一篇:

下一篇:

发表回复

登录后才能评论