纳米制造技术的蓬勃发展为光电产业提供了新结构器件和新材料，促进了光电技术的创新与进步。与此同时，光电器件的新设计、新应用对纳米制造技术提出了多样化与更高的要求。过去的十几年，半导体产业发展促使光刻技术不断刷新分辨率极限。近些年，光电器件在平板显示、照明、传感、光伏器件、可穿戴电子等领域的广泛应用，促使纳米制造技术在可弯折性、可扩展性、稳定性、加工速率等方面不断突破，产生了诸如卷对卷纳米压印的纳米制造新手段，为柔性光电器件中纳米功能材料的工业设计与生产创造了条件。可以说，应用于光电产业的纳米加工新技术突飞猛进，日新月异。
苏州大学陈林森课题组与唐建新课题组在Advanced Materials期刊上发表的综述文章中，对无掩膜纳米结构制作技术，尤其是面向光电器件应用领域的大幅面柔性纳米制造技术的最新进展进行了系统总结，涵盖了激光直写、干涉光刻、电子束直写、自组装技术，以及在新型纳米材料工业化生产中扮演重要角色的纳米压印技术和软压印技术。文章介绍了各纳米制造技术的物理原理，分析比较了各技术的分辨率、可扩展性、加工速率、材料和纳米模具等关键问题。利用这些纳米加工手段，文章还进一步介绍了柔性纳米结构在透明导电膜、有机发光二极管、太阳能电池等器件中的重大突破性进展和集成应用，并对现有纳米制造技术存在的重要挑战和未来研究方向进行了分析。
相关工作已发表在Advanced Materials （DOI:10.1002/adma.201601801）上。
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